Conde-Gallardo, A., Guerrero, M., Soto, A. B, Fragoso, R., Castillo, N.. Influence of the carrier gas in the growth kinetics of TiO2 films deposited by aerosol assisted chemical vapor deposition with titanium-diisopropoxide as precursorRevista Mexicana de Física [en línea] 2006, 52 (octubre) : [fecha de consulta: 5 de marzo de 2014] Disponible en:
<http://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57065312> ISSN 0035-001X