PELÍCULAS DELGADAS DE NITRURO DE ALUMINIO (AlN)

Este documento pretende hacer una revisión de las principales características estructurales y morfológicas del nitruro de aluminio -AlN- específicamente cuando este es depositado por Magnetrón Sputtering ó por medio de Ablación Láser (PLD). Igualmente como influyen los parámetros de crecimiento como presión de gas ambiente (N2), temperatura de sustrato o tiempo de deposición en la calidad y orientación cristalina de las películas delgadas de AlN.

This article on Aluminum Nitride (AlN) and their structural and morphology properties. The properties of ionic and electronic conduction of these compounds and their potential applications ranging from coatings to optoelectronics. Also when it is deposited by magnetron sputtering or by laser ablation (PLD).

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Resumen

Español Este documento pretende hacer una revisión de las principales características estructurales y morfológicas del nitruro de aluminio -AlN- específicamente cuando este es depositado por Magnetrón Sputtering ó por medio de Ablación Láser (PLD). Igualmente como influyen los parámetros de crecimiento como presión de gas ambiente (N2), temperatura de sustrato o tiempo de deposición en la calidad y orientación cristalina de las películas delgadas de AlN.

Inglés This article on Aluminum Nitride (AlN) and their structural and morphology properties. The properties of ionic and electronic conduction of these compounds and their potential applications ranging from coatings to optoelectronics. Also when it is deposited by magnetron sputtering or by laser ablation (PLD).