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Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC | Devia | Ingeniería y Ciencia - ing.cienc.

Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC

Diana Marcela Devia, Fernando Mesa, Pedro José Arango

Resumen


Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la técnica de deposición en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120±C, con intervalos de 5±C. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento de las señales de los espectros angostos de XPS y los patrones de XRD, se determino la formación de los compuestos TiN (Nitruro de Titanio), TiC (Carburo de Titanio) y TiCN (carbonitruro de titanio) en la fase cristalográfica fm-3m correspondiente a las fases FCC de estos compuestos sintetizados.

Palabras clave


Arco pulsado, Microestructura, TiN/TiC, XPS, XRD

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Ingeniería y Ciencia

  • ISSN: 1794-9165
  • e-ISSN: 2256-4314